（贝云网络科技）
而近日，英特尔也宣布完成业界首台商用高数值孔径极紫外光刻机设备（High NA EUV）组装。由光刻技术大厂阿斯麦TWINSCAN EXE:5000 High-NA EUV光刻设备，开始多项校准，2027年启用、生产Intel 14A制程。英特尔强调，当High-NA EUV光刻设备与自家晶圆代工服务的其他领先制程技术相结合时，打印尺寸比现有EUV机台缩小1.7倍，因2D尺寸缩小，密度提高2.9倍，协助英特尔推展制程蓝图。
最强王者 谁是下一个晶圆代工 (最强王者谁是卧底)
而近日，英特尔也宣布完成业界首台商用高数值孔径极紫外光刻机设备，HighNAEUV，组装，由光刻技术大厂阿斯麦TWINSCANEXE，5000High，NAEUV光刻设备，开始多项校准，2027年启用、生产Intel14A制程，英特尔强调，当High，NAEUV光刻设备与自家晶圆代工服务的其他领先制程技术相结合时，打印尺寸比现有EUV...。